科研产出
野生大豆对大豆花叶病毒株系SC13的抗性遗传和基因定位
《植物遗传资源学报 》 2020 北大核心 CSCD
摘要：大豆花叶病毒(SMV,soybean mosaic virus)病是广泛分布于我国各大豆产区的大豆主要病害之一。SMV株系SC13是我国北方大豆产区广泛分布的株系之一。为拓宽大豆对SMV的抗病种质,研究了中国大豆核心种质材料野生大豆ZYD03715对大豆花叶病毒株系SC13的抗性遗传方式,确定与栽培大豆抗源对同一株系的抗性位点间的等位性关系,并对抗性基因进行了标记定位。结果表明:野生大豆抗源ZYD03715对SMV株系SC13的抗性由1对隐性基因控制,广谱抗源科丰1号的抗性受1对显性基因控制,且两个抗源携带的抗性基因是不等位的。采用分离群体组群分析发现,野生大豆ZYD03715对SC13的抗性位点(r~ySC13)位于大豆14号染色体(B2连锁群)上,处于2个SSR标记Satt416和Satt083一侧,与其距离分别为4.1 c M和0.9 c M。利用科丰1号×南农1138-2的F_2群体,将科丰1号所携带的抗性基因(R~k_(SC13))定位在大豆2号染色体(D1b连锁群)上的Satt558和Sat_254标记之间,遗传距离分别为3.7 c M和16.1 c M。以往发现大豆对SMV不同株系的抗性都分别由1对显性基因控制,本研究在野生大豆中鉴定出隐性抗病基因,并标记定位了该隐性抗病基因,它将为大豆抗病性育种的分子标记辅助选择以及抗性基因的精细定位和克隆奠定基础。
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皖豆33对SMV株系SC3的抗性遗传分析及分子标记定位
《中国油料作物学报 》 2019 北大核心 CSCD
摘要：大豆花叶病毒(soybean mosaic virus, SMV)病严重影响我国大豆产量及品质。本研究利用抗病高产稳产大豆品种皖豆33配制抗×感和抗×抗杂交组合,接种SMV优势株系SC3,研究皖豆33的抗性遗传方式及其与不同品种抗性基因间的等位性关系。结果表明:接种SC3后,抗感组合(Williams 82×皖豆33)及(皖豆33×南农1138-2)的F1单株均表现抗病,卡方测验结果显示F2群体符合3抗∶1感的分离比,F2∶3家系分离比符合1抗∶2分离∶1感,表明皖豆33对SC3的抗性由1对显性基因(命名为RSC3(w))控制;抗×抗组合科丰1号、齐黄1号和大白麻×皖豆33的抗性基因等位性研究显示,科丰1号与皖豆33携带对株系SC3的抗性基因是等位的或紧密连锁的,齐黄1号、大白麻与皖豆33携带抗SC3的基因是不等位且独立遗传。利用皖豆33×南农1138-2的392株F2群体将皖豆33携带SC3的抗性基因RSC3(w)定位在大豆2号染色体SSR标记BARCSOYSSR_02_0610和ZL-52之间,遗传距离分别为0.29 cM和0.35 cM,物理距离约为175 kb。
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分子标记在绿豆遗传连锁图谱构建和基因定位研究中的应用
《植物遗传资源学报 》 2017 北大核心 CSCD
摘要：绿豆(Vigna radiata(L.)Wilczek)作为一种医食两用作物,不仅是重要的食物资源,在改善土壤环境、提高农民收入等方面也发挥着重要作用。然而,相对于大宗作物而言,绿豆基础研究薄弱,基因组研究更是落后。近年来,分子标记技术迅速发展,在绿豆基因组学研究中发挥了重要的作用。国内外利用分子标记技术已构建了超过20张绿豆遗传连锁图谱。一些优良基因尤其是与抗性相关的基因被鉴定或精细定位,为绿豆分子标记辅助选择打下基础,加快了抗性新品种的培育进程。本研究通过对分子标记技术在绿豆遗传连锁图谱构建、重要功能基因的定位等方面的应用进行综述,以期为绿豆遗传育种研究及功能基因组学分析提供参考。
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水稻种胚脂肪氧化酶Lox1基因的遗传分析及定位
《核农学报 》 2012 北大核心 CSCD
摘要：为研究水稻种胚脂肪氧化酶Lox1的遗传规律及分子机制,以Lox1缺失突变体1297分别与Lox1活性正常的9311、日本晴杂交,构建2个F2群体,对2个F2群体种子的种胚Lox1进行定量测定和遗传学分析,结果表明低Lox1是受1对单基因控制的隐性性状。以1297与日本晴组配的F2分离群体300个单株为定位群体,将水稻种胚低Lox1基因定位于水稻第3染色体的RM4512和RM282之间,距两侧标记的遗传距离分别为13.0cM和9.1cM,为进一步的分子标记辅助育种和图位克隆打下了基础。通过人工加速老化对种子进行了耐储性评价,表明水稻种胚Lox1与种子储藏特性关系密切。
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水稻闭花授粉基因c/7(t)的遗传分析与基因定位
《中国农业科学 》 2012 北大核心 CSCD
摘要：[目的]鉴定、遗传分析和定位水稻闭花授粉突变体新基因,了解水稻开花机理,利用闭花授粉基因防止转基因作物花粉漂移.[方法]通过EMS对优良粳稻品种H02进行诱变,发现了一个新的闭花授粉突变体8m30.利用突变体8m30与正常开花授粉材料广恢102配制的杂交种和相应的自交分离群体,采用形态特征观察、杂交后代的表型分离统计和遗传分析、基于图位克隆的基因定位等技术方法,对突变体8m30的表型、遗传和基因定位进行研究.[结果]突变体8m30与野生型H02相比,株高变矮,株型变紧,穗着粒密,在整个抽穗授粉过程中,颖花不张开.遗传分析表明该突变性状受1对隐性核基因控制,位于第7染色体长臂的RM21964和RM234之间,遗传距离分别为0.1cM和0.3cM,两者间的物理距离为160kb,与标记RM21971共分离,是一个尚未报道的基因,暂命名为c17(t)(Cleistogamy7(t)).[结论]水稻闭花授粉突变体8m30由位于第7染色体1对隐性核基因控制,位于第7染色体的RM21964和RM234之间160kb范围内.
关键词： 水稻(Oryza satlva L.) 闭花授粉 遗传分析 基因定位
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水稻闭花授粉基因cl7(t)的遗传分析与基因定位
《中国农业科学 》 2012 北大核心 CSCD
摘要：【目的】鉴定、遗传分析和定位水稻闭花授粉突变体新基因,了解水稻开花机理,利用闭花授粉基因防止转基因作物花粉漂移。【方法】通过EMS对优良粳稻品种H02进行诱变,发现了一个新的闭花授粉突变体8m30。利用突变体8m30与正常开花授粉材料广恢102配制的杂交种和相应的自交分离群体,采用形态特征观察、杂交后代的表型分离统计和遗传分析、基于图位克隆的基因定位等技术方法,对突变体8m30的表型、遗传和基因定位进行研究。【结果】突变体8m30与野生型H02相比,株高变矮,株型变紧,穗着粒密,在整个抽穗授粉过程中,颖花不张开。遗传分析表明该突变性状受1对隐性核基因控制,位于第7染色体长臂的RM21964和RM234之间,遗传距离分别为0.1 cM和0.3 cM,两者间的物理距离为160 kb,与标记RM21971共分离,是一个尚未报道的基因,暂命名为cl7(t)(Cleistogamy 7(t))。【结论】水稻闭花授粉突变体8m30由位于第7染色体1对隐性核基因控制,位于第7染色体的RM21964和RM234之间160 kb范围内。
关键词： 水稻(Oryza sativa L.) 闭花授粉 遗传分析 基因定位
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水稻显性半矮秆基因的SCAR标记及初步定位
《作物学报 》 2006 北大核心 CSCD
摘要：粳稻品系Y98149是从离子束诱变的后代中获得的显性半矮秆突变体,与野生型Y98148是1对株高近等基因系。将已经获得的3个与水稻显性半矮秆基因紧密连锁的RAPD标记分别克隆、测序,根据测序结果设计了3对特异性PCR引物,成功地将RAPD标记S1041525、S1076549和S1272403转化成更稳定的SCAR标记SCS1041498、SCS1076510和SCS1272388。通过Y98148×Y98149的F2代分离群体的分析,这3个SCAR标记与显性半矮秆基因的遗传距离分别为12.6cM、7.5 cM和16.3 cM,且位于基因的同一侧。序列同源性比较表明,标记S1272403为单拷贝,其核苷酸序列与水稻第7染色体上2个BAC克隆B1249D05(AP006451)和OJ1212-C12(AP005604)同源性为99%,B1249D05与OJ1212-C12有23 kb的重叠区域,标记S1272403位于这个重叠区域,据此初步将显性半矮秆基因定位,为进一步精确定位和图位克隆奠定了基础。
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水稻外观品质的数量性状基因位点分析(英文)
《遗传学报 》 2003 SCI 北大核心 CSCD
摘要：利用由 98个家系组成的Nipponbare(粳 ) Kasalath(籼 )∥Nipponbare回交重组自交系 (backcrossinbredlines,BILs)群体 (BC1 F9)及其分子连锁图谱 ,采用复合区间作图的方法 ,在 2个不同年份对粒长、粒宽、粒形、垩白率、垩白大小、垩白度和透明度等 7个稻米外观品质性状的数量性状基因位点 (Quantitativetraitloci,QTL)进行了定位分析。共定位到 33个QTLs,单个性状QTL数目在 4～ 7个之间 ,以垩白率最多 ,为 7个 ;粒长和垩白大小次之 ,为 5个 ;其他性状均为 4个 ,表明该组合外观品质是由多基因控制的数量性状。单个QTL对性状变异解释率粒长为 6 2 %～15 2 %,粒宽为 8 3%～ 32 5 %,长宽比为 6 8%～ 19 8%,垩白率为 6 4 %～ 2 8 5 %,垩白大小为 6 1%～ 16 9%,垩白度为 9 3%～ 17 2 %,透明度为 5 6 %～ 2 5 2 % QTL在染色体上成集中分布的特点 ,第 3染色体C1488～C5 6 3、第 5染色体R830～R316 6和R1436～R2 2 89、第 6染色体R2 147～R2 171均有 3个以上的QTLs分布。比较 2年的检测结果表明 ,外观品质性状的QTL定位都受环境影响 ,但不同性状受影响的程度差异很大。粒长和粒形的QTL定位受环境影响很小 ,垩白率、垩白大小和垩白度的QTL定位受环境影响很大。
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